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金沙娱场城61665最新版智造
地址:深圳市宝安区松岗街道松江路6号满京华科创工坊3号楼1303
设备介绍
设备参数
应用领域
产品特点
超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;
高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。
应用范围
真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板等离子表面活化,多层板表面清洁、去钻污、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。
真空等离子清洗机生产厂家金沙娱场城61665最新版智造使用的等离子体是被电离产生的气体,它包括电子、离子和自由基等物质。等离子体与外加磁场相互作用影响,这种作用会影响其內部磁场中的带电离子,提高了等离子体的流体特性,进而造成集团效应如流动性、起伏、不稳定和自组织性。每种等离子体中的颗粒都具备相对单独运动能量分布,而且每种颗粒所保持的能量并不可以一直维持等值均衡。等离子体內部能量由热能、电场能和辐射场构成,它们互相影响、互相转换,使等离子体在一个更宽的范畴内,在相互连接多维度参数空间存在。
在触碰等离子体后,材料都是会产生一系列物理、化学反应。等离子体生产技术生产厂家在完成材料生产加工生产制造的同时,也完成了对材料自身的改性,提升了材料的额外使用价值。真空等离子清洗机由真空发生系统、电子控制系统、等离子发生器、真空腔、机械等好多个部分构成,可依据顾客的特别要求,订制客户满意的真空设备。真空清洗机采用数控加工技术,自动化技术水平高;具备高精密的控制设备;由于是在真空环境中开展处理,不会造成环境污染,确保清洗表层不会受到二次污染。
真空等离子清洗机可用于聚四氟及聚四氟化合物的蚀刻,塑胶、夹层玻璃、瓷器的表层活性清洗,也可用以汽车电子产品、电子器件、PCB生产制造等精密加工行业。
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- 商品名称: 真空式等离子处理系统CRF-VPO-10L-S
- 商品编号: CRF-VPO-10L-S
产品特点超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。应用范围真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板等离子表面活化,多层板表面清洁、去钻污、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。真空等离子清洗机生产厂家金沙娱场城61665最新版智造使用的等离子体是被电离产生的气体,它包括电子、离子和自由基等物质。等离子体与外加磁场相互作用影响,这种作用会影响其內部磁场中的带电离子,提高了等离子体的流体特性,进而造成集团效应如流动性、起伏、不稳定和自组织性。每种等离子体中的颗粒都具备相对单独运动能量分布,而且每种颗粒所保持的能量并不可以一直维持等值均衡。等离子体內部能量由热能、电场能和辐射场构成,它们互相影响、互相转换,使等离子体在一个更宽的范畴内,在相互连接多维度参数空间存在。
在触碰等离子体后,材料都是会产生一系列物理、化学反应。等离子体生产技术生产厂家在完成材料生产加工生产制造的同时,也完成了对材料自身的改性,提升了材料的额外使用价值。真空等离子清洗机由真空发生系统、电子控制系统、等离子发生器、真空腔、机械等好多个部分构成,可依据顾客的特别要求,订制客户满意的真空设备。真空清洗机采用数控加工技术,自动化技术水平高;具备高精密的控制设备;由于是在真空环境中开展处理,不会造成环境污染,确保清洗表层不会受到二次污染。
真空等离子清洗机可用于聚四氟及聚四氟化合物的蚀刻,塑胶、夹层玻璃、瓷器的表层活性清洗,也可用以汽车电子产品、电子器件、PCB生产制造等精密加工行业。 -
名称(Name)
真空式等离子处理系统
型号(Model)
CRF-VPO-10L-S
控制系统(Control system)
PLC+触摸屏
电源(Power supply)
380V/AC,50/60Hz, 3kw
射频电源功率(RF Power)
600W/13.56MHz
容量(Volume )
120L(Option)
层数(Electrode of plies )
8(Option)
有效处理面积(Area)
400(L)*300(W)(Option)
气体通道(Gas)
两路工作气体可选:Ar、N2、H2、CF4、O2
外形(Appearance )
钣金结构
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- 商品名称: 真空式等离子处理系统CRF-VPO-10L-S
- 商品编号: CRF-VPO-10L-S
产品特点超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。应用范围真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板等离子表面活化,多层板表面清洁、去钻污、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。真空等离子清洗机生产厂家金沙娱场城61665最新版智造使用的等离子体是被电离产生的气体,它包括电子、离子和自由基等物质。等离子体与外加磁场相互作用影响,这种作用会影响其內部磁场中的带电离子,提高了等离子体的流体特性,进而造成集团效应如流动性、起伏、不稳定和自组织性。每种等离子体中的颗粒都具备相对单独运动能量分布,而且每种颗粒所保持的能量并不可以一直维持等值均衡。等离子体內部能量由热能、电场能和辐射场构成,它们互相影响、互相转换,使等离子体在一个更宽的范畴内,在相互连接多维度参数空间存在。
在触碰等离子体后,材料都是会产生一系列物理、化学反应。等离子体生产技术生产厂家在完成材料生产加工生产制造的同时,也完成了对材料自身的改性,提升了材料的额外使用价值。真空等离子清洗机由真空发生系统、电子控制系统、等离子发生器、真空腔、机械等好多个部分构成,可依据顾客的特别要求,订制客户满意的真空设备。真空清洗机采用数控加工技术,自动化技术水平高;具备高精密的控制设备;由于是在真空环境中开展处理,不会造成环境污染,确保清洗表层不会受到二次污染。
真空等离子清洗机可用于聚四氟及聚四氟化合物的蚀刻,塑胶、夹层玻璃、瓷器的表层活性清洗,也可用以汽车电子产品、电子器件、PCB生产制造等精密加工行业。 -
名称(Name)
真空式等离子处理系统
型号(Model)
CRF-VPO-10L-S
控制系统(Control system)
PLC+触摸屏
电源(Power supply)
380V/AC,50/60Hz, 3kw
射频电源功率(RF Power)
600W/13.56MHz
容量(Volume )
120L(Option)
层数(Electrode of plies )
8(Option)
有效处理面积(Area)
400(L)*300(W)(Option)
气体通道(Gas)
两路工作气体可选:Ar、N2、H2、CF4、O2
外形(Appearance )
钣金结构
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