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设备介绍
设备参数
应用领域
自动On-Line(轴轮式)式AP等离子设备主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
等离子处理系统技术促进了半导体材料和光学工业生产的快速发展趋势,并被普遍使用于精密的机器设备、汽车工业、新能源技术、航天航空、污染治理等众多高新科技行业。等离子处理系统等离子清洗工艺的关键是低温等离子体的运用,低温等离子体关键借助高温、高频率、高能等外部条件造成,是一种气体状物质,具备中性化、高能、电离气体。低温等离子体的动能约为几十电子伏特,在其中带有离子、电子、自由基和其它特异活性顆粒,及其紫外线等物质,这种顆粒便于与污染物质分子结构反应在材料外表上,使之分离出来,因而可被清理。因为低温等离子体比高能射线的能量低得多,因此这个办法只涉及到原材料的表层,不容易影响到材料的板材特性。
-
- 商品名称: CRF-APO-500W-W
- 商品编号: CRF-APO-500W-W[0]
配置专业运动控制平台,PLC+触摸屏控制方式,采用精准运动模组,操作简便。
可选配喷头数量,满足客户多元化需求。
配置专业集尘系统,保证产品品质和设备的整洁、干净。自动On-Line(轴轮式)式AP等离子设备主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
等离子处理系统技术促进了半导体材料和光学工业生产的快速发展趋势,并被普遍使用于精密的机器设备、汽车工业、新能源技术、航天航空、污染治理等众多高新科技行业。等离子处理系统等离子清洗工艺的关键是低温等离子体的运用,低温等离子体关键借助高温、高频率、高能等外部条件造成,是一种气体状物质,具备中性化、高能、电离气体。低温等离子体的动能约为几十电子伏特,在其中带有离子、电子、自由基和其它特异活性顆粒,及其紫外线等物质,这种顆粒便于与污染物质分子结构反应在材料外表上,使之分离出来,因而可被清理。因为低温等离子体比高能射线的能量低得多,因此这个办法只涉及到原材料的表层,不容易影响到材料的板材特性。
关键词:- CRF-APO-500W-W
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自动On-Line(轴轮式)式AP等离子设备主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
等离子处理系统技术促进了半导体材料和光学工业生产的快速发展趋势,并被普遍使用于精密的机器设备、汽车工业、新能源技术、航天航空、污染治理等众多高新科技行业。等离子处理系统等离子清洗工艺的关键是低温等离子体的运用,低温等离子体关键借助高温、高频率、高能等外部条件造成,是一种气体状物质,具备中性化、高能、电离气体。低温等离子体的动能约为几十电子伏特,在其中带有离子、电子、自由基和其它特异活性顆粒,及其紫外线等物质,这种顆粒便于与污染物质分子结构反应在材料外表上,使之分离出来,因而可被清理。因为低温等离子体比高能射线的能量低得多,因此这个办法只涉及到原材料的表层,不容易影响到材料的板材特性。
-
名称
(Name)
自动式On-Line(轴轮式)AP等离子处理系统
型号
(Model)
CRF-APO-500W-W
电源
(Power supply)
220V/AC,50/60Hz
功率
(Power)
2set*1000W/25KHz(Option)
处理宽幅
(Processing width)
50mm-500mm(Option)
有效处理高度
(Processing height)
5-15mm
处理速度
(Processing speed)
0-5m/min
传动方式
(Drive mode)
防静电绝缘滚轮
喷头数量
(Number)
2(Option)
工作气体
(Gas)
Compressed Air(0.4mpa)
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- 商品名称: CRF-APO-500W-W
- 商品编号: CRF-APO-500W-W[0]
配置专业运动控制平台,PLC+触摸屏控制方式,采用精准运动模组,操作简便。
可选配喷头数量,满足客户多元化需求。
配置专业集尘系统,保证产品品质和设备的整洁、干净。自动On-Line(轴轮式)式AP等离子设备主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
等离子处理系统技术促进了半导体材料和光学工业生产的快速发展趋势,并被普遍使用于精密的机器设备、汽车工业、新能源技术、航天航空、污染治理等众多高新科技行业。等离子处理系统等离子清洗工艺的关键是低温等离子体的运用,低温等离子体关键借助高温、高频率、高能等外部条件造成,是一种气体状物质,具备中性化、高能、电离气体。低温等离子体的动能约为几十电子伏特,在其中带有离子、电子、自由基和其它特异活性顆粒,及其紫外线等物质,这种顆粒便于与污染物质分子结构反应在材料外表上,使之分离出来,因而可被清理。因为低温等离子体比高能射线的能量低得多,因此这个办法只涉及到原材料的表层,不容易影响到材料的板材特性。
关键词:- CRF-APO-500W-W
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自动On-Line(轴轮式)式AP等离子设备主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
等离子处理系统技术促进了半导体材料和光学工业生产的快速发展趋势,并被普遍使用于精密的机器设备、汽车工业、新能源技术、航天航空、污染治理等众多高新科技行业。等离子处理系统等离子清洗工艺的关键是低温等离子体的运用,低温等离子体关键借助高温、高频率、高能等外部条件造成,是一种气体状物质,具备中性化、高能、电离气体。低温等离子体的动能约为几十电子伏特,在其中带有离子、电子、自由基和其它特异活性顆粒,及其紫外线等物质,这种顆粒便于与污染物质分子结构反应在材料外表上,使之分离出来,因而可被清理。因为低温等离子体比高能射线的能量低得多,因此这个办法只涉及到原材料的表层,不容易影响到材料的板材特性。
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名称
(Name)
自动式On-Line(轴轮式)AP等离子处理系统
型号
(Model)
CRF-APO-500W-W
电源
(Power supply)
220V/AC,50/60Hz
功率
(Power)
2set*1000W/25KHz(Option)
处理宽幅
(Processing width)
50mm-500mm(Option)
有效处理高度
(Processing height)
5-15mm
处理速度
(Processing speed)
0-5m/min
传动方式
(Drive mode)
防静电绝缘滚轮
喷头数量
(Number)
2(Option)
工作气体
(Gas)
Compressed Air(0.4mpa)
荣誉证书





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